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一．氨分解設(shè)備流程簡述：

    利用液氨為原料，氨經(jīng)裂解后，每公斤液氨裂解可制得2.64Nm3混合氣體，其中含75%的氫氣和25%的氮氣。所得的氣體含雜質(zhì)較少(雜質(zhì)中含水汽約2克/立方米，殘余氨約1000ppm), 再通過分子篩(美國UOP)吸附純化器，氣體的露點可降至-600C以下，殘余氨可降至3PPM以下.

    氨裂解制氫爐可用于有色金屬，硅鋼、鉻鋼和不銹鋼等金屬材料和零件的光亮退火、硅鋼片的脫碳處理、銅基、鐵基粉末冶金燒結(jié)、電真空器件的金屬零件燒氫處理、半導(dǎo)體器件的保護(hù)燒結(jié)和封結(jié)、鈀合金膜擴散純化氫氣的原料氣等。

    原料氨容易得到，價格低廉，原料消耗較少。氨裂解來制取保護(hù)氣體具有投資少，體積小，效率高等優(yōu)點

二．氨分解設(shè)備工作原理：

    氨(氣態(tài))在一定溫度下，經(jīng)催化劑(西南院Z204)作用下裂解為75%的氫氣和25%的氮氣，并吸收21.9千卡熱量，其主要反應(yīng)為：

    整個過程因是吸熱膨脹反應(yīng)，提高溫度有利于氨裂解,同時它又是體積擴大的反應(yīng),降低壓力有利于氨的分解，氨分解設(shè)備設(shè)備為使用最佳狀態(tài)。

三．氫氣純化工作原理：

    當(dāng)氨分解設(shè)備設(shè)備所產(chǎn)生的氫氣合格時再進(jìn)入氫氣純化作進(jìn)一步提純處理，裂解氫氣的純度很高，其中揮發(fā)性雜質(zhì)只有微量的殘氨和水份,可見只須除去微量殘氨和水份即可獲得高純度氣體.

    氣體提純采用變溫吸附技術(shù)。變溫吸附(TSA)技術(shù)是以吸附劑(多孔固體物質(zhì))內(nèi)部表面對氣體分子在不同溫度下吸附性能不同為基礎(chǔ)的一種氣體分離純化工藝.常溫時吸附雜質(zhì)氣,加溫時脫附雜質(zhì)氣,

    分子篩表面全是微孔，在常溫常壓下可吸附相當(dāng)于自重20%(靜態(tài)吸附時的水份和雜質(zhì)，而在350℃左右的溫度下，可以再生完全，每24小時切換一次，以得到純度和雜質(zhì)含量均合格的產(chǎn)品氣體。